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二氟化氙（XeF2），又稱二氟代氙，分子量為169.30，在電子工業中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體，由于XeF2和硅的化學反應是自發反應，XeF2對硅的腐蝕工藝具有非常高的選擇性，在XeF2對硅進行腐蝕過程中，XeF2氣體通過自由擴散到硅襯底表面，并與最外層硅原子發生化學反應生成氣態Xe和氣態SiF4，從而實現對硅的腐蝕。
產品指標
產品用途：
在電子工業中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體。此外，二氟化氙是一種選擇性很好的氟化試劑，在無機氟化物制備及有機合成中有廣泛的應用，但其只有在氣相和非水溶液中才具有氟化性質，在水溶液中只能起氧化劑的作用。
產品貯存：
二氟化氙儲存于陰涼、通風的庫房，應與氧化劑、食用化學品、堿金屬分開存放，遠離火種、熱源。
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